PVD 陰極電弧沉積系統

陰極電弧沉積(Cathodic Arc Evaporation, CAE),是物理氣相沉積法(PVD)中的一種,由於具有高離化率、沈積速率高等優點,鍍膜系統結構如圖2.8所示,促進靶面電漿反應同時在靶後方通以冷卻水路,降低靶面弧點溶池溫度,使鍍膜緻密性提高

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圖(1)陰極電弧沉積系統示意圖


此系統利用引弧棒撞擊陰極靶材表面造成短路進而引弧,產生低電壓高電流電弧放電,在陰極蒸發源表面形成陰極弧光斑點(cathode spot),由於陰極弧光斑點會在在靶材表面快速移動,造成陰極蒸發源表面形成微坑洞熔融狀態,進而將材料蒸發出來的一種蒸鍍技術,因此電漿中存在陰極蒸發源之氣體離子或分子,如圖(2)所示。

(2) 不連續的陰極弧光斑點示意圖