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1996年永源自英國引進PVD(低溫真空濺鍍)
非平衡磁控濺射鍍膜機和獨特的類鑽石(Diamond-Like Carbon,DLC)
鍍層合成技術, 結合了PVD與PECVD(電漿輔助化學氣相沉積)兩種
技術,使鍍層具備了高附著力性, 高硬度和低摩擦係數的要求。
1997年3月永源研發完成新一代的DIACO超硬陶瓷鍍膜, 除保有原
來的特性外,更將陶瓷鍍膜的合成溫度控制在200
以下, 較傳統
DLC對工件精度的要求更具保障性。
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鍍膜種類 DIACO 鑽石
被覆方式 PVD+PECVD CVD
沉積方式 200℃ 800-1000℃
粗  糙   度
厚         度
韌         性
複雜件膜層均勻性
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硬度
(Hv0.05)
附著性 耐氧化
溫度
粗糙度(Ra:um) 摩擦係數 顏色

Hv
3000-5000

60N 350 0.1以下 0.1 亮黑色
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測試條件/荷重:40牛頓
                 時間:3小時
                 轉速:60rpm

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IC封裝成型模具、PCB用小鑽頭、裝飾用高爾夫球頭、生醫材料

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